保险箱，拿出数瓶约摸550毫升罐装可乐大小的密封罐子道：
“1号ArF光刻胶，曝光波长：193nmIMM，技术节点及应用：N40nm-7nmPTDL/S，工艺能力CD：0.063um，工艺能力THK：0.16-0.24um。”
“翻译一下。”
虽然陈星是重生者，又带有国产之光系统，但这并不代表他是万能的，光刻胶他可没学过。
朱明月闻言，淡淡一笑解释道：“曝光波长193纳米，说明它支持193深紫外光，也就是DUV光刻机的曝光，技术节点及应用N40纳米-7纳米PTDL/S，可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”
“工艺能力CD：0.063um是分辨率，而工艺能力THK：0.16-0.24um则是涂抹厚度。”
陈星理解能力很强，在听了讲解以后，立马抓住重点道：“也就是说，这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶？”
“是的。”
朱明月点了点头，继续抛出这款光刻胶的底细道：“因为考虑到我们没有EUV光源，所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”
“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”