们烧高香了。至于20纳米？没有个两年，想都别想。”
下属连连点头：“也是，星逸半导体能突破28纳米就是奇迹了，估计20纳米都难。”
“嗯，当然，话虽然这么说，不过挖人的事也得限制一下，尤其是参与14纳米工艺的核心人才，都不能放！让星逸半导体继续在28纳米活泥巴吧！”
“是！”下属连忙应道：“我会把FinFET工艺的核心工程师，全部限制。”
“嗯，FinFET工艺是突破20纳米以下制程的关键，绝不能输出。”
有了提防，三星和台积电都对FinFET工艺的核心人才进行了限制，防止进一步被挖走。
但可惜这半个月的时间，星逸科技已经用超高薪水，挖了部分FinFET研发工程师。
尤其是华裔工程师，在三星备受排挤，自然愿意回归。
还有一些怀有抱负，想着帮助内地半导体崛起的精锐，也愿意加入。
也有的只是觉得星逸科技发展前景好，待遇比三星和台积电还高得多。
种种因素之下，很多工程师都选择了跳槽，加入了星逸半导体。
至于限制？
当一个人铁了心想要跳槽，任何限制都没有意义。
那怕有竞业限制又如何，很多办法可以规避。
三星台积电想要维权，只能起诉，但是起诉过程很复杂，很漫长，往往要好几年的时间。
如果是梁老这样的大牛，他们还会花费时间和精力进行起诉。
但普通的工程师，就没那个必要了，不够费时费力的。
而星逸科技下手的目标，就是这些年轻，有潜力的普通工程师。
这些人约束少，研发能力强，还年轻有发展，哪怕现在只是普通工程师，有了胡老的指导和培养，很快就能成为独当一面的精锐。
此外，星逸半导体还加大了应届生招聘工作，通过多方面吸纳半导体人才。
好在FinFET工艺的核心，就是胡老发明的，没有人能比他了解更多。
因此星逸半导体在14纳米的研发速度，比三星和台积电都要快很多很多。
毕竟胡老就是奠基人！
三星的14纳米能如此迅速，很大原因也是梁老师承胡老，也在FinFET工艺做出巨大贡献。
FinFET工艺方面，反而是台积电落了下风。
不
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