i还没有发布。
而当下的1950i估计会便宜一些。
比如尼康的NSR-S620D和阿斯麦的1950i，性能差不了多少，多重曝光后也可以做10-28nm，甚至7nm。
使得中芯国际的28nm工艺大规模量产，能满足大多数芯片需求。
阿斯麦不但在DUV光刻机领域独领风骚，而且开始发力EUV光刻机，进军7nm以下的制程。
不过老款的1950i运作一下，还是有希望的。
当然，不能只压阿斯麦，小日子那边也得看看。
可7nm制程，就要用NXT1980Di四重曝光，技术方面梁老都能解决，但良品率和成本就不好说了。
20台就是70亿！
为什么一次性进这么多？还不是怕做大了被锤！
果然，一台1950i光刻机要4000万欧元，5470万美元，也就是3.5亿人民币。
14nm需要三重曝光，凭借梁老的技术，良品率和成本也能保证。
哪怕溢价买，都不成问题！
幸好梁老能力突出，在多重曝光领域造诣颇深，硬是推出N+1、N+2工艺，用NXT1980Di这种落后的光刻机，实现了14nm、10nm，甚至7nm。
最初，台积电用NXT:1980Di来制造7nm芯片，效果很不理想，良品率低，成本高，最后还是换上EUV光刻机，才实现了完美的7nm。
同样，要用NXT:1980Di来制造14nm、7nm的芯片，那就得靠多重曝光技术，对厂家的技术要求非常高，量产芯片的成本也很高。
巧妇难为无米之炊。
当然趁着当下风头不紧，抓紧多进一些！
这样后续产能扩大，都够用，一直用到2018年1980di都不再禁售。
进上十台，就是35亿。
而尼康还在苦苦坚持，高端领域没希望，可是中低端领域还是没问题的。
后续的NXT：1960Bi、1970Ci、1980Di，不过是在NXT：1950i进行了部分升级，提高了良品率和精度，本质上相差不大。
为此，王逸拿出手机，开始查数据。
梁老的两重曝光技术，不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上，成本也不会增加太多
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